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研究成果
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IMPLANTEPITAXY BY MEANS OF SILICON PI-MBE.
T. Itoh, Takashi Meguro, K. Yonemoto
物理学科
研究成果
:
Paper
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査読
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「IMPLANTEPITAXY BY MEANS OF SILICON PI-MBE.」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Keyphrases
Molecular Beam Epitaxy
100%
Ohmic Electrodes
100%
Partially Ionized
100%
Impurities
66%
Si Film
33%
Si Substrate
33%
Ion Implantation
33%
P-n Heterojunction
33%
Shallow Junction
33%
Heterojunction Electrode
33%
Epitaxial Si
33%
Successive Growth
33%
Material Science
Silicon
100%
Molecular Beam Epitaxy
100%
Film
50%
Heterojunction
50%
Ion Implantation
50%
Chemical Engineering
Molecular Beam Epitaxy
100%
Film
50%