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プロファイル
研究部門
研究成果
Etching of spin-on-glass films by synchrotron radiation
J. Taniguchi
, K. Kanda
, S. Matsui
, M. Tokunaga
, I. Miyamoto
電子システム工学科
研究成果
:
Conference contribution
›
査読
1
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被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Etching of spin-on-glass films by synchrotron radiation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Keyphrases
Synchrotron Radiation
100%
Spinon
100%
On-glass
100%
Low-k Dielectric
100%
Capacitance
66%
Capacitance Model
66%
Interlayer Dielectric
66%
Radiation Exposure
33%
Electrical Properties
33%
Chemical Properties
33%
Water Absorption
33%
Organic Matter
33%
Thermal Properties
33%
Inorganic Materials
33%
Crosstalk Noise
33%
Dry Etching
33%
Plasma Treatment
33%
Photoexcitation
33%
Chemical Vapor Deposition
33%
Power Dissipation
33%
Plasma Oxidation
33%
Propagation Delay
33%
Capacitive Coupling
33%
Wiring
33%
Low Dielectric Constant
33%
Electron Beam Curing
33%
Metal Levels
33%
Dielectric Beam
33%
Device Features
33%
Porous Interlayer
33%
Metal Line
33%
Chemical Engineering
Vapor Deposition
100%
Chemical Vapor Deposition
100%
Plasma Property
100%
Film
100%
Material Science
Film
100%
Dielectric Material
100%
Capacitance
80%
Permittivity
20%
Chemical Vapor Deposition
20%
Thermal Property
20%
Dry Etching
20%
Chemical Property
20%
Engineering
Dielectrics
100%
Interlayer
33%
Crosstalk
33%
Porosity
33%
Dry Etching
16%
Chemical Vapor Deposition
16%
Vapor Deposition
16%
Plasma Treatment
16%
Energy Dissipation
16%
Feature Size
16%
Propagation Delay
16%
Coupling Capacitance
16%
Interline
16%