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プロファイル
研究部門
研究成果
Scopus著者プロファイル
安藤 靜敏
教授
工学部
,
電気工学科
ウェブサイト
https://www.tus.ac.jp/ridai/doc/ji/RIJIA01Detail.php?act=nam&kin=ken&diu=128B
h-index
713
被引用数
15
h 指数
Pureの文献数とScopusの被引用数に基づいて算出されます
1990 …
2023
年別の研究成果
概要
フィンガープリント
ネットワーク
研究成果
(52)
類似のプロファイル
(2)
フィンガープリント
Shizutoshi Andoが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Keyphrases
Ba2NaNb5O15
34%
CuInS2 Thin Films
32%
Pulsed Laser Ablation
24%
Laser Ablation Method
22%
CuInSe2
22%
X Ray Diffraction
21%
Green Emission
19%
Spin Coating Technique
19%
Photoluminescence
17%
Gas Pressure
17%
Bi4Ti3O12
16%
Metal-organic Decomposition
14%
Micropatterning
14%
Hydrogel Microspheres
14%
Poly(acrylamide-co-acrylic acid)
14%
Photoluminescence Spectra
13%
Optical Properties
13%
Bi4Ti3O12 Thin Film
12%
Monodisperse
12%
Selenization
12%
Membrane Emulsification Technique
12%
Metal Organic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE)
12%
Surface Properties
12%
Naphthenate
11%
Acrylic Acid
10%
Laser Energy Density
10%
Mobility Values
10%
Electron Beam
10%
Crystalline Properties
10%
Heat Treatment
10%
Single Crystal
10%
Photoluminescence Properties
9%
Poly(lactide-co-glycolide) Microsphere
9%
Bovine Serum Albumin
9%
Related Compounds
9%
Sustained Release
9%
Size Dependence
9%
Induced Response
9%
R-plane Sapphire
9%
Si(111)
9%
Microcapsules
9%
Electrophoretic Mobility
9%
C-axis Orientation
9%
Optical Absorption
9%
Estradiol
9%
Peak Energy
8%
Diffraction Lines
8%
Growth Process
8%
C-axis
8%
Temperature Effect
8%
Material Science
Thin Films
100%
Film
59%
Ferroelectric Material
41%
Laser Ablation
34%
Photoluminescence
32%
X-Ray Diffraction
32%
Spin Coating
24%
Optical Property
12%
Vapor Phase Epitaxy
12%
Heat Treatment
11%
Energy Density
10%
Single Crystal
10%
Sapphire
9%
Sintering
9%
Surface Morphology
9%
Diffraction Pattern
8%
Scanning Electron Microscopy
8%
Capacitor
6%
Crystal Growth
6%
Crystal Structure
6%
Thermistor
6%
Sintering Temperature
5%
X Ray Powder Diffraction
5%
Titanium
5%
Solar Cell
5%
Engineering
Thin Films
75%
Ray Diffraction
29%
Pulsed Laser Ablation
26%
Gas Pressure
17%
Laminated Structure
14%
Green Emission
14%
Heat Treatment
11%
Polycrystalline
11%
Laser Energy Density
10%
Absorptivity
10%
Coating Technique
9%
Beam Irradiation
9%
Crystal Structure
9%
X-Ray Powder Diffraction
8%
Precursor Solution
8%
Emission Peak
8%
Low-Temperature
7%
Growth Process
7%
Dielectrics
7%
Surface Morphology
7%
Peak Energy
6%
Molar Ratio
6%
Sintering
6%
Band Gap
5%
