年別の研究成果
年別の研究成果
研究者プロファイル
研究・技術テーマ
光塩基発生剤の開発と光反応性材料（レジスト、ＵＶキュアリングなど）への応用
酸増殖剤および塩基増殖剤の開発と光反応性材料（レジスト、ＵＶキュアリングなど）への応用
熱酸発生剤・熱塩基発生剤の開発と硬化材料への応用
塩基発生無機微粒子の調製と光反応性材料への応用
光潜在性チオールの合成と光反応性材料（レジスト、ＵＶキュアリングなど）への応用
酸増殖剤および塩基増殖剤の開発と光反応性材料（レジスト、ＵＶキュアリングなど）への応用
熱酸発生剤・熱塩基発生剤の開発と硬化材料への応用
塩基発生無機微粒子の調製と光反応性材料への応用
光潜在性チオールの合成と光反応性材料（レジスト、ＵＶキュアリングなど）への応用
フィンガープリント
Koji Arimitsuが活動している研究トピックを掘り下げます。このトピックラベルは、この研究者の研究成果に基づきます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
- 6 類似のプロファイル
ネットワーク
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研究成果
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Improvements in the physical properties of UV-curable coating by utilizing type II photoinitiator
Sanai, Y., Ninomiya, T. & Arimitsu, K., 2 2021, In: Progress in Organic Coatings. 151, 106038.研究成果: Article › 査読
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Photoadhesive materials containing 2-mercaptopyridyl moieties
Furutani, M., Fujihira, D. & Arimitsu, K., 2020, In: Journal of Photopolymer Science and Technology. 33, 3, p. 261-267 7 p.研究成果: Article › 査読
Open Access -
Initiator-free photopolymerization of common acrylate monomers with 254 nm light
Furutani, M., Ide, T., Kinoshita, S., Horiguchi, R., Mori, I., Sakai, K. & Arimitsu, K., 1 2019, In: Polymer International. 68, 1, p. 79-82 4 p.研究成果: Article › 査読
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Photoadhesive of acrylates containing cross-links of dipyridyl disulfide
Furutani, M., Nakayama, K., Okuma, K. & Arimitsu, K., 2019, In: Journal of Photopolymer Science and Technology. 32, 4, p. 619-622 4 p.研究成果: Article › 査読
Open Access -
Photoresist materials comprising photobase generators and epoxy resins bearing carboxylic acids to lead to marked enhancement of base-catalyzed cross-linking reactions
Terada, K., Furutani, M. & Arimitsu, K., 1 2 2019, In: Polymers for Advanced Technologies. 30, 2, p. 304-311 8 p.研究成果: Article › 査読